| 管理番号 |
分析条件 |
備考 |
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（試料調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、得られた上清を試料溶液とした。
（TLC条件）注入量：3 μL、展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル（9:2）、検出：バニリン・硫酸試液噴霧後、加熱。
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A. 254nm
B. 366nm
C. バニリン・硫酸試液噴霧後、加熱
①NIB-1053 ②NIB-1054 ③NIB-1055 ④NIB-1056 ⑤NIB-1057 ⑥NIB-1059
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（試料調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、得られた上清を試料溶液とした。
（TLC条件）注入量：3 μL、展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル（9:2）、検出：バニリン・硫酸試液噴霧後、加熱。
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A. 254nm
B. 366nm
C. バニリン・硫酸試液噴霧後、加熱
①NIB-1053 ②NIB-1054 ③NIB-1055 ④NIB-1056 ⑤NIB-1057 ⑥NIB-1059
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（試料調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、得られた上清を試料溶液とした。
（TLC条件）注入量：3 μL、展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル（9:2）、検出：バニリン・硫酸試液噴霧後、加熱。
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A. 254nm
B. 366nm
C. バニリン・硫酸試液噴霧後、加熱
①NIB-1053 ②NIB-1054 ③NIB-1055 ④NIB-1056 ⑤NIB-1057 ⑥NIB-1059
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（試料調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、得られた上清を試料溶液とした。
（TLC条件）注入量：3 μL、展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル（9:2）、検出：バニリン・硫酸試液噴霧後、加熱。
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A. 254nm
B. 366nm
C. バニリン・硫酸試液噴霧後、加熱
①NIB-1053 ②NIB-1054 ③NIB-1055 ④NIB-1056 ⑤NIB-1057 ⑥NIB-1059
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（試料調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、得られた上清を試料溶液とした。
（TLC条件）注入量：3 μL、展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル（9:2）、検出：バニリン・硫酸試液噴霧後、加熱。
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A. 254nm
B. 366nm
C. バニリン・硫酸試液噴霧後、加熱
①NIB-1053 ②NIB-1054 ③NIB-1055 ④NIB-1056 ⑤NIB-1057 ⑥NIB-1059
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（試料調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、得られた上清を試料溶液とした。
（TLC条件）注入量：3 μL、展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル（9:2）、検出：バニリン・硫酸試液噴霧後、加熱。
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A. 254nm
B. 366nm
C. バニリン・硫酸試液噴霧後、加熱
①NIB-1053 ②NIB-1054 ③NIB-1055 ④NIB-1056 ⑤NIB-1057 ⑥NIB-1059
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