モデル試料 TLC画像一覧-

NIB-0836 (キョウカツ)

（試料調製）各試料の粉末0.1 gにヘキサン1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、得られた上清を試料溶液とした。

（TLC条件）注入量：10 μL、展開溶媒：メタノール/水（9:1）、検出：UV照射（254 nm、366 nm）。HPTLCガラスプレートは、薄層クロマトグラフィー用オクタデシルシリル化シリカゲル（蛍光剤入り）を使用。

A. 254nm
B. 366nm

① NIB-0836　② NIB-0837　③ NIB-0838　④ NIB-0839　⑤ NIB-0840　⑥ NIB-0841　⑦ NIB-0842　⑧ NIB-0843　⑨ NIB-0844　⑩ NIB-0845　

NIB-0837 (キョウカツ)

（試料調製）各試料の粉末0.1 gにヘキサン1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、得られた上清を試料溶液とした。

（TLC条件）注入量：10 μL、展開溶媒：メタノール/水（9:1）、検出：UV照射（254 nm、366 nm）。HPTLCガラスプレートは、薄層クロマトグラフィー用オクタデシルシリル化シリカゲル（蛍光剤入り）を使用。

A. 254nm
B. 366nm

① NIB-0836　② NIB-0837　③ NIB-0838　④ NIB-0839　⑤ NIB-0840　⑥ NIB-0841　⑦ NIB-0842　⑧ NIB-0843　⑨ NIB-0844　⑩ NIB-0845　

NIB-0838 (キョウカツ)

（試料調製）各試料の粉末0.1 gにヘキサン1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、得られた上清を試料溶液とした。

（TLC条件）注入量：10 μL、展開溶媒：メタノール/水（9:1）、検出：UV照射（254 nm、366 nm）。HPTLCガラスプレートは、薄層クロマトグラフィー用オクタデシルシリル化シリカゲル（蛍光剤入り）を使用。

A. 254nm
B. 366nm

① NIB-0836　② NIB-0837　③ NIB-0838　④ NIB-0839　⑤ NIB-0840　⑥ NIB-0841　⑦ NIB-0842　⑧ NIB-0843　⑨ NIB-0844　⑩ NIB-0845　

NIB-0839 (キョウカツ)

（試料調製）各試料の粉末0.1 gにヘキサン1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、得られた上清を試料溶液とした。

（TLC条件）注入量：10 μL、展開溶媒：メタノール/水（9:1）、検出：UV照射（254 nm、366 nm）。HPTLCガラスプレートは、薄層クロマトグラフィー用オクタデシルシリル化シリカゲル（蛍光剤入り）を使用。

A. 254nm
B. 366nm

① NIB-0836　② NIB-0837　③ NIB-0838　④ NIB-0839　⑤ NIB-0840　⑥ NIB-0841　⑦ NIB-0842　⑧ NIB-0843　⑨ NIB-0844　⑩ NIB-0845　

NIB-0840 (キョウカツ)

（試料調製）各試料の粉末0.1 gにヘキサン1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、得られた上清を試料溶液とした。

（TLC条件）注入量：10 μL、展開溶媒：メタノール/水（9:1）、検出：UV照射（254 nm、366 nm）。HPTLCガラスプレートは、薄層クロマトグラフィー用オクタデシルシリル化シリカゲル（蛍光剤入り）を使用。

A. 254nm
B. 366nm

① NIB-0836　② NIB-0837　③ NIB-0838　④ NIB-0839　⑤ NIB-0840　⑥ NIB-0841　⑦ NIB-0842　⑧ NIB-0843　⑨ NIB-0844　⑩ NIB-0845　

NIB-0841 (キョウカツ)

（試料調製）各試料の粉末0.1 gにヘキサン1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、得られた上清を試料溶液とした。

（TLC条件）注入量：10 μL、展開溶媒：メタノール/水（9:1）、検出：UV照射（254 nm、366 nm）。HPTLCガラスプレートは、薄層クロマトグラフィー用オクタデシルシリル化シリカゲル（蛍光剤入り）を使用。

A. 254nm
B. 366nm

① NIB-0836　② NIB-0837　③ NIB-0838　④ NIB-0839　⑤ NIB-0840　⑥ NIB-0841　⑦ NIB-0842　⑧ NIB-0843　⑨ NIB-0844　⑩ NIB-0845　

NIB-0842 (キョウカツ)

（試料調製）各試料の粉末0.1 gにヘキサン1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、得られた上清を試料溶液とした。

（TLC条件）注入量：10 μL、展開溶媒：メタノール/水（9:1）、検出：UV照射（254 nm、366 nm）。HPTLCガラスプレートは、薄層クロマトグラフィー用オクタデシルシリル化シリカゲル（蛍光剤入り）を使用。

A. 254nm
B. 366nm

① NIB-0836　② NIB-0837　③ NIB-0838　④ NIB-0839　⑤ NIB-0840　⑥ NIB-0841　⑦ NIB-0842　⑧ NIB-0843　⑨ NIB-0844　⑩ NIB-0845　

NIB-0843 (キョウカツ)

（試料調製）各試料の粉末0.1 gにヘキサン1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、得られた上清を試料溶液とした。

（TLC条件）注入量：10 μL、展開溶媒：メタノール/水（9:1）、検出：UV照射（254 nm、366 nm）。HPTLCガラスプレートは、薄層クロマトグラフィー用オクタデシルシリル化シリカゲル（蛍光剤入り）を使用。

A. 254nm
B. 366nm

① NIB-0836　② NIB-0837　③ NIB-0838　④ NIB-0839　⑤ NIB-0840　⑥ NIB-0841　⑦ NIB-0842　⑧ NIB-0843　⑨ NIB-0844　⑩ NIB-0845　

NIB-0844 (キョウカツ)

（試料調製）各試料の粉末0.1 gにヘキサン1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、得られた上清を試料溶液とした。

（TLC条件）注入量：10 μL、展開溶媒：メタノール/水（9:1）、検出：UV照射（254 nm、366 nm）。HPTLCガラスプレートは、薄層クロマトグラフィー用オクタデシルシリル化シリカゲル（蛍光剤入り）を使用。

A. 254nm
B. 366nm

① NIB-0836　② NIB-0837　③ NIB-0838　④ NIB-0839　⑤ NIB-0840　⑥ NIB-0841　⑦ NIB-0842　⑧ NIB-0843　⑨ NIB-0844　⑩ NIB-0845　

NIB-0845 (キョウカツ)

（試料調製）各試料の粉末0.1 gにヘキサン1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、得られた上清を試料溶液とした。

（TLC条件）注入量：10 μL、展開溶媒：メタノール/水（9:1）、検出：UV照射（254 nm、366 nm）。HPTLCガラスプレートは、薄層クロマトグラフィー用オクタデシルシリル化シリカゲル（蛍光剤入り）を使用。

A. 254nm
B. 366nm

① NIB-0836　② NIB-0837　③ NIB-0838　④ NIB-0839　⑤ NIB-0840　⑥ NIB-0841　⑦ NIB-0842　⑧ NIB-0843　⑨ NIB-0844　⑩ NIB-0845　