| 管理番号 |
分析条件 |
備考 |
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（試料調製）各試料の粉末0.5 gにメタノール5.0 mLを加え、約3分間超音波処理を行った。自然ろ過後、得られたろ液を試料溶液とした。
（TLC条件）注入量：2 μL、展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル/酢酸（30:10:1）、検出：UV照射（254 nm、366 nm）、バニリン・硫酸試液噴霧後、加熱。
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A. 254nm
B. 366nm
C. バニリン・硫酸試液噴霧後、加熱
①NIB-0998 ②NIB-0999 ③NIB-1000 ④NIB-1001
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（試料調製）各試料の粉末0.5 gにメタノール5.0 mLを加え、約3分間超音波処理を行った。自然ろ過後、得られたろ液を試料溶液とした。
（TLC条件）注入量：2 μL、展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル/酢酸（30:10:1）、検出：UV照射（254 nm、366 nm）、バニリン・硫酸試液噴霧後、加熱。
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A. 254nm
B. 366nm
C. バニリン・硫酸試液噴霧後、加熱
①NIB-0998 ②NIB-0999 ③NIB-1000 ④NIB-1001
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（試料調製）各試料の粉末0.5 gにメタノール5.0 mLを加え、約3分間超音波処理を行った。自然ろ過後、得られたろ液を試料溶液とした。
（TLC条件）注入量：2 μL、展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル/酢酸（30:10:1）、検出：UV照射（254 nm、366 nm）、バニリン・硫酸試液噴霧後、加熱。
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A. 254nm
B. 366nm
C. バニリン・硫酸試液噴霧後、加熱
①NIB-0998 ②NIB-0999 ③NIB-1000 ④NIB-1001
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（試料調製）各試料の粉末0.5 gにメタノール5.0 mLを加え、約3分間超音波処理を行った。自然ろ過後、得られたろ液を試料溶液とした。
（TLC条件）注入量：2 μL、展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル/酢酸（30:10:1）、検出：UV照射（254 nm、366 nm）、バニリン・硫酸試液噴霧後、加熱。
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A. 254nm
B. 366nm
C. バニリン・硫酸試液噴霧後、加熱
①NIB-0998 ②NIB-0999 ③NIB-1000 ④NIB-1001
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