| 管理番号 |
分析条件 |
備考 |
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（試料調製）各試料の粉末0.2 gに酢酸エチル1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、残留物にアセトン1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、得られた上清を試料溶液とした。
（TLC条件）注入量：試料溶液5 μL、展開溶媒：酢酸エチル/メタノール/水（7:2:1）、検出：UV照射（254 nm、366 nm）、希硫酸試液噴霧し、加熱後、UV照射（366 nm）。
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A. 254nm
B. 366nm
C. 希硫酸試液噴霧・加熱 366nm
①NIB-1050 ②NIB-1051 ③NIB-1052
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（試料調製）各試料の粉末0.2 gに酢酸エチル1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、残留物にアセトン1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、得られた上清を試料溶液とした。
（TLC条件）注入量：試料溶液5 μL、展開溶媒：酢酸エチル/メタノール/水（7:2:1）、検出：UV照射（254 nm、366 nm）、希硫酸試液噴霧し、加熱後、UV照射（366 nm）。
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A. 254nm
B. 366nm
C. 希硫酸試液噴霧・加熱 366nm
①NIB-1050 ②NIB-1051 ③NIB-1052
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（試料調製）各試料の粉末0.2 gに酢酸エチル1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、残留物にアセトン1.0 mLを加え、約5分間超音波処理を行った。遠心分離後、得られた上清を試料溶液とした。
（TLC条件）注入量：試料溶液5 μL、展開溶媒：酢酸エチル/メタノール/水（7:2:1）、検出：UV照射（254 nm、366 nm）、希硫酸試液噴霧し、加熱後、UV照射（366 nm）。
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A. 254nm
B. 366nm
C. 希硫酸試液噴霧・加熱 366nm
①NIB-1050 ②NIB-1051 ③NIB-1052
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