モデル試料 TLC画像一覧

管理番号 分析条件 備考
(試料調製)各試料の粉末0.1 gにメタノール2.0 mLを加え約40℃の水浴中で3分間超音波処理を行った.遠心分離後,得られた上清を試料溶液とした.

(TLC条件)注入量:各5 μL,展開溶媒:酢酸エチル/メタノール(3:1),検出:254 nm,366 nm,4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸試液噴霧後,加熱.
A. 254nm
B. 366nm
C. 4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸・酢酸・エタノール試液(加熱)
  4-methoxybenzaldehyde-sulfuric acid TS

①STD.Geniposide
②NIB-019 ③NIB-020 ④NIB-044 ⑤NIB-081 ⑥NIB-097 ⑦NIB-124 ⑧NIB-125
⑨NIB-154 ⑩NIB-192 ⑪NIB-193 ⑫NIB-224
(試料調製)各試料の粉末0.1 gにメタノール2.0 mLを加え約40℃の水浴中で3分間超音波処理を行った.遠心分離後,得られた上清を試料溶液とした.

(TLC条件)注入量:各5 μL,展開溶媒:酢酸エチル/メタノール(3:1),検出:254 nm,366 nm,4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸試液噴霧後,加熱.
A. 254nm
B. 366nm
C. 4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸・酢酸・エタノール試液(加熱)
  4-methoxybenzaldehyde-sulfuric acid TS

①STD.Geniposide
②NIB-019 ③NIB-020 ④NIB-044 ⑤NIB-081 ⑥NIB-097 ⑦NIB-124 ⑧NIB-125
⑨NIB-154 ⑩NIB-192 ⑪NIB-193 ⑫NIB-224
(試料調製)各試料の粉末0.1 gにメタノール2.0 mLを加え約40℃の水浴中で3分間超音波処理を行った.遠心分離後,得られた上清を試料溶液とした.

(TLC条件)注入量:各5 μL,展開溶媒:酢酸エチル/メタノール(3:1),検出:254 nm,366 nm,4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸試液噴霧後,加熱.
A. 254nm
B. 366nm
C. 4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸・酢酸・エタノール試液(加熱)
  4-methoxybenzaldehyde-sulfuric acid TS

①STD.Geniposide
②NIB-019 ③NIB-020 ④NIB-044 ⑤NIB-081 ⑥NIB-097 ⑦NIB-124 ⑧NIB-125
⑨NIB-154 ⑩NIB-192 ⑪NIB-193 ⑫NIB-224
(試料調製)各試料の粉末0.1 gにメタノール2.0 mLを加え約40℃の水浴中で3分間超音波処理を行った.遠心分離後,得られた上清を試料溶液とした.

(TLC条件)注入量:各5 μL,展開溶媒:酢酸エチル/メタノール(3:1),検出:254 nm,366 nm,4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸試液噴霧後,加熱.
A. 254nm
B. 366nm
C. 4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸・酢酸・エタノール試液(加熱)
  4-methoxybenzaldehyde-sulfuric acid TS

①STD.Geniposide
②NIB-019 ③NIB-020 ④NIB-044 ⑤NIB-081 ⑥NIB-097 ⑦NIB-124 ⑧NIB-125
⑨NIB-154 ⑩NIB-192 ⑪NIB-193 ⑫NIB-224
(試料調製)各試料の粉末0.1 gにメタノール2.0 mLを加え約40℃の水浴中で3分間超音波処理を行った.遠心分離後,得られた上清を試料溶液とした.

(TLC条件)注入量:各5 μL,展開溶媒:酢酸エチル/メタノール(3:1),検出:254 nm,366 nm,4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸試液噴霧後,加熱.
A. 254nm
B. 366nm
C. 4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸・酢酸・エタノール試液(加熱)
  4-methoxybenzaldehyde-sulfuric acid TS

①STD.Geniposide
②NIB-019 ③NIB-020 ④NIB-044 ⑤NIB-081 ⑥NIB-097 ⑦NIB-124 ⑧NIB-125
⑨NIB-154 ⑩NIB-192 ⑪NIB-193 ⑫NIB-224
(試料調製)各試料の粉末0.1 gにメタノール2.0 mLを加え約40℃の水浴中で3分間超音波処理を行った.遠心分離後,得られた上清を試料溶液とした.

(TLC条件)注入量:各5 μL,展開溶媒:酢酸エチル/メタノール(3:1),検出:254 nm,366 nm,4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸試液噴霧後,加熱.
A. 254nm
B. 366nm
C. 4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸・酢酸・エタノール試液(加熱)
  4-methoxybenzaldehyde-sulfuric acid TS

①STD.Geniposide
②NIB-019 ③NIB-020 ④NIB-044 ⑤NIB-081 ⑥NIB-097 ⑦NIB-124 ⑧NIB-125
⑨NIB-154 ⑩NIB-192 ⑪NIB-193 ⑫NIB-224
(試料調製)各試料の粉末0.1 gにメタノール2.0 mLを加え約40℃の水浴中で3分間超音波処理を行った.遠心分離後,得られた上清を試料溶液とした.

(TLC条件)注入量:各5 μL,展開溶媒:酢酸エチル/メタノール(3:1),検出:254 nm,366 nm,4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸試液噴霧後,加熱.
A. 254nm
B. 366nm
C. 4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸・酢酸・エタノール試液(加熱)
  4-methoxybenzaldehyde-sulfuric acid TS

①STD.Geniposide
②NIB-019 ③NIB-020 ④NIB-044 ⑤NIB-081 ⑥NIB-097 ⑦NIB-124 ⑧NIB-125
⑨NIB-154 ⑩NIB-192 ⑪NIB-193 ⑫NIB-224
(試料調製)各試料の粉末0.1 gにメタノール2.0 mLを加え約40℃の水浴中で3分間超音波処理を行った.遠心分離後,得られた上清を試料溶液とした.

(TLC条件)注入量:各5 μL,展開溶媒:酢酸エチル/メタノール(3:1),検出:254 nm,366 nm,4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸試液噴霧後,加熱.
A. 254nm
B. 366nm
C. 4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸・酢酸・エタノール試液(加熱)
  4-methoxybenzaldehyde-sulfuric acid TS

①STD.Geniposide
②NIB-019 ③NIB-020 ④NIB-044 ⑤NIB-081 ⑥NIB-097 ⑦NIB-124 ⑧NIB-125
⑨NIB-154 ⑩NIB-192 ⑪NIB-193 ⑫NIB-224
(試料調製)各試料の粉末0.1 gにメタノール2.0 mLを加え約40℃の水浴中で3分間超音波処理を行った.遠心分離後,得られた上清を試料溶液とした.

(TLC条件)注入量:各5 μL,展開溶媒:酢酸エチル/メタノール(3:1),検出:254 nm,366 nm,4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸試液噴霧後,加熱.
A. 254nm
B. 366nm
C. 4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸・酢酸・エタノール試液(加熱)
  4-methoxybenzaldehyde-sulfuric acid TS

①STD.Geniposide
②NIB-019 ③NIB-020 ④NIB-044 ⑤NIB-081 ⑥NIB-097 ⑦NIB-124 ⑧NIB-125
⑨NIB-154 ⑩NIB-192 ⑪NIB-193 ⑫NIB-224
(TLC条件)注入量:各5 μL,展開溶媒:酢酸エチル/メタノール(3:1),検出:254 nm,366 nm,4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸試液噴霧後,加熱.
A. 254nm
B. 366nm
C. 4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸・酢酸・エタノール試液(加熱)
  4-methoxybenzaldehyde-sulfuric acid TS

①STD.Geniposide
②NIB-019 ③NIB-020 ④NIB-044 ⑤NIB-081 ⑥NIB-097 ⑦NIB-124 ⑧NIB-125
⑨NIB-154 ⑩NIB-192 ⑪NIB-193 ⑫NIB-224
(TLC条件)注入量:各5 μL,展開溶媒:酢酸エチル/メタノール(3:1),検出:254 nm,366 nm,4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸試液噴霧後,加熱.
A. 254nm
B. 366nm
C. 4-メトキシベンズアルデヒド・硫酸・酢酸・エタノール試液(加熱)
  4-methoxybenzaldehyde-sulfuric acid TS

①STD.Geniposide
②NIB-019 ③NIB-020 ④NIB-044 ⑤NIB-081 ⑥NIB-097 ⑦NIB-124 ⑧NIB-125
⑨NIB-154 ⑩NIB-192 ⑪NIB-193 ⑫NIB-224