モデル試料 TLC画像一覧-

モデル試料 TLC画像一覧

管理番号	分析条件	備考
NIB-0014 (ケイヒ)	（試料溶液の調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え，1分間超音波処理を行った．遠心分離（3000 rpm）を3分間行い，得られた上清を試料溶液とした．（ＴＬＣ条件）7 cm展開、バンド幅8 mm，バンド間隔2 mm 注入量：各5 μL，展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル混液（2:1） UV照射（254 nm）および2,4-ジニトロフェニルヒドラジン試液噴霧．	A. 254nm B. 366nm C. 4-ニトロフェニルヒドラジン試液　　dinitrophenylhydrazine TS ①STD.Cinnamaldehyde ②NIB-014 ③NIB-015 ④NIB-043 ⑤NIB-062 ⑥NIB-068 ⑦NIB-069 ⑧NIB-070 ⑨NIB-078 ⑩NIB-095 ⑪NIB-117 ⑫NIB-118 ⑬NIB-119 ⑭NIB-151 ⑮NIB-171 ⑯NIB-187 ⑰NIB-188 ⑱NIB-222
NIB-0015 (ケイヒ)	（試料溶液の調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え，1分間超音波処理を行った．遠心分離（3000 rpm）を3分間行い，得られた上清を試料溶液とした．（ＴＬＣ条件）7 cm展開、バンド幅8 mm，バンド間隔2 mm 注入量：各5 μL，展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル混液（2:1） UV照射（254 nm）および2,4-ジニトロフェニルヒドラジン試液噴霧．	A. 254nm B. 366nm C. 4-ニトロフェニルヒドラジン試液　　dinitrophenylhydrazine TS ①STD.Cinnamaldehyde ②NIB-014 ③NIB-015 ④NIB-043 ⑤NIB-062 ⑥NIB-068 ⑦NIB-069 ⑧NIB-070 ⑨NIB-078 ⑩NIB-095 ⑪NIB-117 ⑫NIB-118 ⑬NIB-119 ⑭NIB-151 ⑮NIB-171 ⑯NIB-187 ⑰NIB-188 ⑱NIB-222
NIB-0043 (ケイヒ)	（試料溶液の調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え，1分間超音波処理を行った．遠心分離（3000 rpm）を3分間行い，得られた上清を試料溶液とした．（ＴＬＣ条件）7 cm展開、バンド幅8 mm，バンド間隔2 mm 注入量：各5 μL，展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル混液（2:1） UV照射（254 nm）および2,4-ジニトロフェニルヒドラジン試液噴霧．	A. 254nm B. 366nm C. 4-ニトロフェニルヒドラジン試液　　dinitrophenylhydrazine TS ①STD.Cinnamaldehyde ②NIB-014 ③NIB-015 ④NIB-043 ⑤NIB-062 ⑥NIB-068 ⑦NIB-069 ⑧NIB-070 ⑨NIB-078 ⑩NIB-095 ⑪NIB-117 ⑫NIB-118 ⑬NIB-119 ⑭NIB-151 ⑮NIB-171 ⑯NIB-187 ⑰NIB-188 ⑱NIB-222
NIB-0062 (ケイヒ)	（試料溶液の調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え，1分間超音波処理を行った．遠心分離（3000 rpm）を3分間行い，得られた上清を試料溶液とした．（ＴＬＣ条件）7 cm展開、バンド幅8 mm，バンド間隔2 mm 注入量：各5 μL，展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル混液（2:1） UV照射（254 nm）および2,4-ジニトロフェニルヒドラジン試液噴霧．	A. 254nm B. 366nm C. 4-ニトロフェニルヒドラジン試液　　dinitrophenylhydrazine TS ①STD.Cinnamaldehyde ②NIB-014 ③NIB-015 ④NIB-043 ⑤NIB-062 ⑥NIB-068 ⑦NIB-069 ⑧NIB-070 ⑨NIB-078 ⑩NIB-095 ⑪NIB-117 ⑫NIB-118 ⑬NIB-119 ⑭NIB-151 ⑮NIB-171 ⑯NIB-187 ⑰NIB-188 ⑱NIB-222
NIB-0068 (ケイヒ)	（試料溶液の調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え，1分間超音波処理を行った．遠心分離（3000 rpm）を3分間行い，得られた上清を試料溶液とした．（ＴＬＣ条件）7 cm展開、バンド幅8 mm，バンド間隔2 mm 注入量：各5 μL，展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル混液（2:1） UV照射（254 nm）および2,4-ジニトロフェニルヒドラジン試液噴霧．	A. 254nm B. 366nm C. 4-ニトロフェニルヒドラジン試液　　dinitrophenylhydrazine TS ①STD.Cinnamaldehyde ②NIB-014 ③NIB-015 ④NIB-043 ⑤NIB-062 ⑥NIB-068 ⑦NIB-069 ⑧NIB-070 ⑨NIB-078 ⑩NIB-095 ⑪NIB-117 ⑫NIB-118 ⑬NIB-119 ⑭NIB-151 ⑮NIB-171 ⑯NIB-187 ⑰NIB-188 ⑱NIB-222
NIB-0069 (ケイヒ)	（試料溶液の調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え，1分間超音波処理を行った．遠心分離（3000 rpm）を3分間行い，得られた上清を試料溶液とした．（ＴＬＣ条件）7 cm展開、バンド幅8 mm，バンド間隔2 mm 注入量：各5 μL，展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル混液（2:1） UV照射（254 nm）および2,4-ジニトロフェニルヒドラジン試液噴霧．	A. 254nm B. 366nm C. 4-ニトロフェニルヒドラジン試液　　dinitrophenylhydrazine TS ①STD.Cinnamaldehyde ②NIB-014 ③NIB-015 ④NIB-043 ⑤NIB-062 ⑥NIB-068 ⑦NIB-069 ⑧NIB-070 ⑨NIB-078 ⑩NIB-095 ⑪NIB-117 ⑫NIB-118 ⑬NIB-119 ⑭NIB-151 ⑮NIB-171 ⑯NIB-187 ⑰NIB-188 ⑱NIB-222
NIB-0070 (ケイヒ)	（試料溶液の調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え，1分間超音波処理を行った．遠心分離（3000 rpm）を3分間行い，得られた上清を試料溶液とした．（ＴＬＣ条件）7 cm展開、バンド幅8 mm，バンド間隔2 mm 注入量：各5 μL，展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル混液（2:1） UV照射（254 nm）および2,4-ジニトロフェニルヒドラジン試液噴霧．	A. 254nm B. 366nm C. 4-ニトロフェニルヒドラジン試液　　dinitrophenylhydrazine TS ①STD.Cinnamaldehyde ②NIB-014 ③NIB-015 ④NIB-043 ⑤NIB-062 ⑥NIB-068 ⑦NIB-069 ⑧NIB-070 ⑨NIB-078 ⑩NIB-095 ⑪NIB-117 ⑫NIB-118 ⑬NIB-119 ⑭NIB-151 ⑮NIB-171 ⑯NIB-187 ⑰NIB-188 ⑱NIB-222
NIB-0078 (ケイヒ)	（試料溶液の調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え，1分間超音波処理を行った．遠心分離（3000 rpm）を3分間行い，得られた上清を試料溶液とした．（ＴＬＣ条件）7 cm展開、バンド幅8 mm，バンド間隔2 mm 注入量：各5 μL，展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル混液（2:1） UV照射（254 nm）および2,4-ジニトロフェニルヒドラジン試液噴霧．	A. 254nm B. 366nm C. 4-ニトロフェニルヒドラジン試液　　dinitrophenylhydrazine TS ①STD.Cinnamaldehyde ②NIB-014 ③NIB-015 ④NIB-043 ⑤NIB-062 ⑥NIB-068 ⑦NIB-069 ⑧NIB-070 ⑨NIB-078 ⑩NIB-095 ⑪NIB-117 ⑫NIB-118 ⑬NIB-119 ⑭NIB-151 ⑮NIB-171 ⑯NIB-187 ⑰NIB-188 ⑱NIB-222
NIB-0095 (ケイヒ)	（試料溶液の調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え，1分間超音波処理を行った．遠心分離（3000 rpm）を3分間行い，得られた上清を試料溶液とした．（ＴＬＣ条件）7 cm展開、バンド幅8 mm，バンド間隔2 mm 注入量：各5 μL，展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル混液（2:1） UV照射（254 nm）および2,4-ジニトロフェニルヒドラジン試液噴霧．	A. 254nm B. 366nm C. 4-ニトロフェニルヒドラジン試液　　dinitrophenylhydrazine TS ①STD.Cinnamaldehyde ②NIB-014 ③NIB-015 ④NIB-043 ⑤NIB-062 ⑥NIB-068 ⑦NIB-069 ⑧NIB-070 ⑨NIB-078 ⑩NIB-095 ⑪NIB-117 ⑫NIB-118 ⑬NIB-119 ⑭NIB-151 ⑮NIB-171 ⑯NIB-187 ⑰NIB-188 ⑱NIB-222
NIB-0117 (ケイヒ)	（試料溶液の調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え，1分間超音波処理を行った．遠心分離（3000 rpm）を3分間行い，得られた上清を試料溶液とした．（ＴＬＣ条件）7 cm展開、バンド幅8 mm，バンド間隔2 mm 注入量：各5 μL，展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル混液（2:1） UV照射（254 nm）および2,4-ジニトロフェニルヒドラジン試液噴霧．	A. 254nm B. 366nm C. 4-ニトロフェニルヒドラジン試液　　dinitrophenylhydrazine TS ①STD.Cinnamaldehyde ②NIB-014 ③NIB-015 ④NIB-043 ⑤NIB-062 ⑥NIB-068 ⑦NIB-069 ⑧NIB-070 ⑨NIB-078 ⑩NIB-095 ⑪NIB-117 ⑫NIB-118 ⑬NIB-119 ⑭NIB-151 ⑮NIB-171 ⑯NIB-187 ⑰NIB-188 ⑱NIB-222
NIB-0118 (ケイヒ)	（試料溶液の調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え，1分間超音波処理を行った．遠心分離（3000 rpm）を3分間行い，得られた上清を試料溶液とした．（ＴＬＣ条件）7 cm展開、バンド幅8 mm，バンド間隔2 mm 注入量：各5 μL，展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル混液（2:1） UV照射（254 nm）および2,4-ジニトロフェニルヒドラジン試液噴霧．	A. 254nm B. 366nm C. 4-ニトロフェニルヒドラジン試液　　dinitrophenylhydrazine TS ①STD.Cinnamaldehyde ②NIB-014 ③NIB-015 ④NIB-043 ⑤NIB-062 ⑥NIB-068 ⑦NIB-069 ⑧NIB-070 ⑨NIB-078 ⑩NIB-095 ⑪NIB-117 ⑫NIB-118 ⑬NIB-119 ⑭NIB-151 ⑮NIB-171 ⑯NIB-187 ⑰NIB-188 ⑱NIB-222
NIB-0119 (ケイヒ)	（試料溶液の調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え，1分間超音波処理を行った．遠心分離（3000 rpm）を3分間行い，得られた上清を試料溶液とした．（ＴＬＣ条件）7 cm展開、バンド幅8 mm，バンド間隔2 mm 注入量：各5 μL，展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル混液（2:1） UV照射（254 nm）および2,4-ジニトロフェニルヒドラジン試液噴霧．	A. 254nm B. 366nm C. 4-ニトロフェニルヒドラジン試液　　dinitrophenylhydrazine TS ①STD.Cinnamaldehyde ②NIB-014 ③NIB-015 ④NIB-043 ⑤NIB-062 ⑥NIB-068 ⑦NIB-069 ⑧NIB-070 ⑨NIB-078 ⑩NIB-095 ⑪NIB-117 ⑫NIB-118 ⑬NIB-119 ⑭NIB-151 ⑮NIB-171 ⑯NIB-187 ⑰NIB-188 ⑱NIB-222
NIB-0151 (ケイヒ)	（試料溶液の調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え，1分間超音波処理を行った．遠心分離（3000 rpm）を3分間行い，得られた上清を試料溶液とした．（ＴＬＣ条件）7 cm展開、バンド幅8 mm，バンド間隔2 mm 注入量：各5 μL，展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル混液（2:1） UV照射（254 nm）および2,4-ジニトロフェニルヒドラジン試液噴霧．	A. 254nm B. 366nm C. 4-ニトロフェニルヒドラジン試液　　dinitrophenylhydrazine TS ①STD.Cinnamaldehyde ②NIB-014 ③NIB-015 ④NIB-043 ⑤NIB-062 ⑥NIB-068 ⑦NIB-069 ⑧NIB-070 ⑨NIB-078 ⑩NIB-095 ⑪NIB-117 ⑫NIB-118 ⑬NIB-119 ⑭NIB-151 ⑮NIB-171 ⑯NIB-187 ⑰NIB-188 ⑱NIB-222
NIB-0171 (ケイヒ)	（試料溶液の調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え，1分間超音波処理を行った．遠心分離（3000 rpm）を3分間行い，得られた上清を試料溶液とした．（ＴＬＣ条件）7 cm展開、バンド幅8 mm，バンド間隔2 mm 注入量：各5 μL，展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル混液（2:1） UV照射（254 nm）および2,4-ジニトロフェニルヒドラジン試液噴霧．	A. 254nm B. 366nm C. 4-ニトロフェニルヒドラジン試液　　dinitrophenylhydrazine TS ①STD.Cinnamaldehyde ②NIB-014 ③NIB-015 ④NIB-043 ⑤NIB-062 ⑥NIB-068 ⑦NIB-069 ⑧NIB-070 ⑨NIB-078 ⑩NIB-095 ⑪NIB-117 ⑫NIB-118 ⑬NIB-119 ⑭NIB-151 ⑮NIB-171 ⑯NIB-187 ⑰NIB-188 ⑱NIB-222
NIB-0187 (ケイヒ)	（試料溶液の調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え，1分間超音波処理を行った．遠心分離（3000 rpm）を3分間行い，得られた上清を試料溶液とした．（ＴＬＣ条件）7 cm展開、バンド幅8 mm，バンド間隔2 mm 注入量：各5 μL，展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル混液（2:1） UV照射（254 nm）および2,4-ジニトロフェニルヒドラジン試液噴霧．	A. 254nm B. 366nm C. 4-ニトロフェニルヒドラジン試液　　dinitrophenylhydrazine TS ①STD.Cinnamaldehyde ②NIB-014 ③NIB-015 ④NIB-043 ⑤NIB-062 ⑥NIB-068 ⑦NIB-069 ⑧NIB-070 ⑨NIB-078 ⑩NIB-095 ⑪NIB-117 ⑫NIB-118 ⑬NIB-119 ⑭NIB-151 ⑮NIB-171 ⑯NIB-187 ⑰NIB-188 ⑱NIB-222
NIB-0188 (ケイヒ)	（試料溶液の調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え，1分間超音波処理を行った．遠心分離（3000 rpm）を3分間行い，得られた上清を試料溶液とした．（ＴＬＣ条件）7 cm展開、バンド幅8 mm，バンド間隔2 mm 注入量：各5 μL，展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル混液（2:1） UV照射（254 nm）および2,4-ジニトロフェニルヒドラジン試液噴霧．	A. 254nm B. 366nm C. 4-ニトロフェニルヒドラジン試液　　dinitrophenylhydrazine TS ①STD.Cinnamaldehyde ②NIB-014 ③NIB-015 ④NIB-043 ⑤NIB-062 ⑥NIB-068 ⑦NIB-069 ⑧NIB-070 ⑨NIB-078 ⑩NIB-095 ⑪NIB-117 ⑫NIB-118 ⑬NIB-119 ⑭NIB-151 ⑮NIB-171 ⑯NIB-187 ⑰NIB-188 ⑱NIB-222
NIB-0188 (ケイヒ)	（試料溶液の調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え，1分間超音波処理を行った．遠心分離（3000 rpm）を3分間行い，得られた上清を試料溶液とした．（ＴＬＣ条件）7 cm展開、バンド幅8 mm，バンド間隔2 mm 注入量：各5 μL，展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル混液（2:1） UV照射（254 nm）および2,4-ジニトロフェニルヒドラジン試液噴霧．	A. 254nm B. 366nm C. 4-ニトロフェニルヒドラジン試液　　dinitrophenylhydrazine TS ①STD.Cinnamaldehyde ②NIB-014 ③NIB-015 ④NIB-043 ⑤NIB-062 ⑥NIB-068 ⑦NIB-069 ⑧NIB-070 ⑨NIB-078 ⑩NIB-095 ⑪NIB-117 ⑫NIB-118 ⑬NIB-119 ⑭NIB-151 ⑮NIB-171 ⑯NIB-187 ⑰NIB-188 ⑱NIB-222
NIB-0222 (ケイヒ)	（試料溶液の調製）各試料の粉末0.1 gにメタノール1.0 mLを加え，1分間超音波処理を行った．遠心分離（3000 rpm）を3分間行い，得られた上清を試料溶液とした．（ＴＬＣ条件）7 cm展開、バンド幅8 mm，バンド間隔2 mm 注入量：各5 μL，展開溶媒：n-ヘキサン/酢酸エチル混液（2:1） UV照射（254 nm）および2,4-ジニトロフェニルヒドラジン試液噴霧．	A. 254nm B. 366nm C. 4-ニトロフェニルヒドラジン試液　　dinitrophenylhydrazine TS ①STD.Cinnamaldehyde ②NIB-014 ③NIB-015 ④NIB-043 ⑤NIB-062 ⑥NIB-068 ⑦NIB-069 ⑧NIB-070 ⑨NIB-078 ⑩NIB-095 ⑪NIB-117 ⑫NIB-118 ⑬NIB-119 ⑭NIB-151 ⑮NIB-171 ⑯NIB-187 ⑰NIB-188 ⑱NIB-222